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衷敬和,姜其斌,蔡彬芬，周光紅
湖南株洲時(shí)代新材料科技股份公司技術(shù)中心    湖南　株洲 412007

摘要：用均苯四甲酸二酐（PMDA）和4,4’-二氨基二苯醚（ODA）合成聚酰亞胺基體樹脂，以甲基三乙氧基硅烷（MTEOS）為無機(jī)前驅(qū)體原位產(chǎn)生二氧化硅粒子，并以３－氨丙基三乙氧基硅烷（APrTEOS）為偶聯(lián)劑制備了聚酰亞胺/二氧化硅雜化薄膜。采用原子力顯微鏡（AFM）表征了雜化薄膜的界面形態(tài)，并分析和討論了無機(jī)成份的含量和兩相間界面形態(tài)的變化對薄膜吸水率的影響。結(jié)果表明無機(jī)組份的引入將對雜化薄膜的吸水率產(chǎn)生一定的影響，薄膜的吸水率隨二氧化硅含量的增加而降低；偶聯(lián)劑的引入對無機(jī)粒子的分散、兩相間相容性及界面形態(tài)具有明顯的改善作用。

論文來源:2005全國高分子學(xué)術(shù)論文報(bào)告會

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