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含有不同間隔基團的二階非線性光學高分子 |
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| 資料類型： |
PDF文件
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| 關鍵詞： |
間隔基團 合成 構(gòu)性關系 |
| 資料大?。?/td>
| 87K |
| 所屬學科： |
分子表征 |
| 來源： |
2009年全國高分子學術論文報告會（8.18-8.22，天津） |
| 簡介： |
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目前非線性光學高分子應用的主要阻礙是如何將發(fā)色團的一階超極化率(β)值轉(zhuǎn)換為材料高的宏觀非線性光學效應。根據(jù)位分離原理，在生色團上引入間隔基團可以很好解決此問題，可是間隔基團的形狀、大小及其引入位置與材料宏觀非線性光學性能之間的關系如何，尚沒有相關報道。 |
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| 作者： |
李忠安，葉成，秦金貴，李振
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| 上傳時間： |
2009-09-25 11:58:47 |
| 下載次數(shù)： |
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